• 热蒸发镀膜机-维意真空

• 设备用途：

这是一台高真空单室有机/金属热蒸发镀膜设备，主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验。
    该设备具有有机材料热蒸发—沉积和金属材料热蒸发—沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。

• 热蒸发镀膜机-维意真空设备主要技术特点：
  1、蒸发源组件石英复合组件，为电流控制方式，配有电压表与

电流表，3套蒸发源可实现2对共蒸， 2个金属蒸发源（电

极水冷），配有2套电控系统，额定电压5V，额定电流300A。
2、最大样品尺寸100*100mm。
3、真空获得为复合分子泵+机械泵，配有预抽真空系统，可在

分子泵不停止的情况下实现换样品，设备30分钟以内

2*10-3pa，极限压力8*10-4pa。
4、密封刀口无氧铜金属密封，其余用氟胶圈，真空管路用不锈

钢金属波纹管路，采用 真空阀门。
5、每个蒸发源配挡板，基片配挡板，保证镀膜的可控性。
6、样品旋转可在0-30转/分钟调速及定位。
 

• 热蒸发镀膜机-维意真空设备主要组成：

该设备由一台有机/金属真空蒸发镀膜室、分子泵真空机组、样品传送装置、电控系统、膜厚检测、组成。

真空镀膜室：1组有机蒸发源、2组金属蒸发源、旋转样品台、样品挡板、真空获得与测量、电源系统等组成。真空室为前开门式，便于取放样品及换蒸发源，主机与机柜分体式便于维护，每组蒸发源之间有隔板隔离，避免相互污染。

工作条件及主要技术参数：
1、供电：～380V三相五线供电系统（整机容量6KW），环境温

度10℃～40℃，冷却水循环量0.3M3/H，水温度15℃～

30℃，气源压力6公斤，6毫米塑料管。
       2、极限真空：8×10-4Pa（新设备）；工作背景真空：2×10-3Pa；

恢复工作背景真空时间30分钟左右。

 
五、热蒸发镀膜设备配置参数：

（一）、真空室及组件1套。
1）、 450*450*500主真空室（包括：不锈钢U型室及门法兰1套、XF100观察窗及接管1套、可装电极及接管的底法兰1套、CF150法兰座及接管1套、CF63法兰座及接管1套、CF35法兰座及接管2套、旋转及挡板法兰座1套、KF16接口1件）。
2）、 减速电机控制可旋转、定位及调速样品台1套。
3）、 外控样品台旋转档板1套。
4）、 金属及有机物蒸发源3套。（电极水冷）
5）、 外控蒸发源挡板3套。（电动磁力转轴）
6）、 带脚轮、支脚、围板机架1套。
（二）、真空获得1套。
1）、 真空室与插板阀连接管道1套（包括KF40预抽阀连接法兰）。
2）、 KF40手动高真空角阀2只。
3）、 CF150插板阀2只。
4）、 600升复合分子泵1套。
5）、 KF25手动高真空角阀1只。
6）、 KF40*1米前级不锈钢波纹管2根。
7）、 KF40四通通1只。
8）、 KF25*1.3米预抽不锈钢波纹管1根。
9）、 KF40压差阀1只。
10）、 合资6升机械泵1台。
11）、 KF16手动充气阀2只。
12）、 KF40卡箍9只。
13）、 KF25卡箍3只。
14）、 KF16卡箍3只。
（三）、电器控制1套。
1）、 1.6米机柜1套。
2）、 真空测量1套。（复合真空计）
3）、 蒸发加热控制电源3套（含尊龙人生就是搏网站）。
4）、 旋转、阀门、照明及蒸发源挡板控制电源1套。
5）、 总控电源1套。
（四）、其余配件：
1）、 样品架2套
2）、 过渡真空室1套
3）、 磁力传送杆1套
4）、 膜厚仪1套。（注：水冷探头）
5）、 冷却水循环机1套
（五）、密封件及紧固件等。
（六）、设计调试及运输。