程控高低温扩散炉 　　

外型形式：卧式1—4管结构程控高低温扩散炉主要满足半导体尊龙人生就是搏网站电子器件行业、大功率集成电路等行业，对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。 　　 　　

技术指标：
                可处理硅片尺寸：2—8英寸 　　
                工作温度：200℃—1300℃ 　　
                恒温区长度及精度：200mm—100mm≤±0.5℃ 　　
                单点温度稳定性、重复性：≤±1.5℃／24h 　　
                温度斜变：可控升温速率20℃／min， 　　
                可控降温速率：5℃／min 　　
                送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉 　　
                气路系统：1—5路工艺气体／管 　　
                气体控制：全自动MFC、手动浮子流量计 　　
                 控制方式：工控机、触摸屏